Дмитрий Николаевич Новомейский, аспирант, Самарский национальный исследовательский университет имени академика С. П. Королева (Россия, г. Самара, Московское шоссе, 34) E-mail: kipres@ssau.ru
Михаил Николаевич Пиганов, доктор технических наук, профессор, профессор кафедры конструирования и технологии электронных систем и устройств, Самарский национальный исследовательский университет имени академика С. П. Королева (Россия, г. Самара, Московское шоссе, 34) E-mail: kipres@ssau.ru
Ербол Токтамысович Ескибаев, магистр, начальник кафедры тактики авиации, Военный инситут сил воздушной обороны, (Казахстан, г. Актобе, пр-т Алии Молдагуловой, 39А) E-mail: erbol.eskibaev_26.04@mail.ru

Аннотация

Актуальность и цели. Актуальность темы данной работы обусловлена необходимостью повышения эффективности, достоверности и качества результатов измерительного контроля при электрофизической обработке пленочных резисторов микросборок высокочастотным факельным разрядом. Цель – анализ и оценка методических погрешностей процесса электрофизической обработки пленочных резисторов высокочастотным факельным разрядом, реализуемого по заданному алгоритму. Материалы и методы. Использованы компьютерное моделирование, программирование, натурный эксперимент, экспертные оценки. Проведен системный анализ погрешностей при электрофизической обработке пленочных резисторов высокочастотным факельным разрядом. Он показал, что основной вклад в точностные характеристики технологического устройства обработки вносят элементы методической, инструментальной и дополнительной погрешностей. Выявлены основные составляющие методической погрешности. Показано, что среди элементов общей методической погрешности определяющее значение имеет погрешность величины зазора между пленочным резистором и рабочим электродом технологического устройства обработки. При определении величины зазора между электродом и пленкой использовали формулу, входящую в состав модели обработки факельным разрядом. Для расчетов использовался математический пакет MathCAD. Детальный анализ процесса образования методической погрешности определения зазора между электродом и пленкой при работе технологического устройства показал, что основными факторами ее формирования являются мощность и температура факела, воздействующего на поверхность образца. Выполнена оценка методической погрешности величины зазора «резистор-электрод». Результаты. Получены математические выражения для определения методической погрешности. Общая методическая погрешность определения величины зазора для наихудшего случая равна 20 %. При оценке погрешности определения температуры факела использовали метод «прямоугольников». Он показал, что методическая погрешность определения температуры разряда составляет 2,6 %. Выводы. Приведенные результаты могут быть использованы при выборе измерительной части устройства контроля процесса обработки факельным разрядом, в процессе оптимизации измерительных процедур, а также в качестве исходных данных при разработке ИИС для технологического сопровождения процесса обработки пленочных структур.

Ключевые слова

факельный разряд, точность обработки, погрешности, методическая погрешность, зазор, мощность, температура, резистор, электрод, формулы для оценки, выбор, измерительная часть

 Скачать статью в формате PDF

Для цитирования:

Новомейский Д. Н., Пиганов М. Н., Ескибаев Е. Т. Анализ методической погрешности электрофизической обработки пленочных резисторов при выборе измерительной части контрольного устройства // Надежность и качество сложных систем. 2024. № 4. С. 68–74. doi: 10.21685/2307-4205-2024-4-7